多晶硅生產設備清洗的意義

多晶硅按不同的用途可分為太陽能級多晶硅和電子級多晶硅兩類。太陽能級多晶硅的純度一般在5～7N，主要雜質為Fe、Cr、Ni、Cu、Zn 等，金屬雜質總含量≤0.2(太陽能三級品要求)。電子級多晶硅一般含Si＞99.9999%以上，超高純達到99.9999999%～99.999999999%，即9～11N，其導電性為10- 4～1010Ω·cm，碳濃度＜2×1016at·cm- 3。

油脂、水分、氯離子殘留、金屬氧化物、氯化物、灰塵及其他雜質，對多晶硅的純度影響極大。在多晶硅設備制造、安裝和多晶硅生產過程中清洗是十分重要的部分，要按多晶硅生產工藝，對不同潔凈度要求、不同材質的設備采用不同的清洗方法。'
 
多晶硅設備的清洗的不同階段：

1、設備制造階段的清洗

金屬設備及管道、零件需要在除漆前將表面的氧化皮和鐵銹除掉，設備內部的油脂、軋制鱗片、銹皮等也需要進行清洗。

2、多晶硅設備安裝階段的清潔

由于工藝管道輸送的介質特性及產品純度要求，對管道的焊接質量及內部清潔、吹掃試壓均有較高要求，對設備進場驗收、檢驗及安裝、內部處理也有較高要求，因此設備制造結束后的清洗處理至關重要。在裝置進行試生產前期，系統注入四氯化硅進行循環清洗約2～3個月，時間的長短取決于設備前期清洗情況。

3、多晶硅設備生產期間的清洗

還原爐和氫化爐是改良西門子法生產多晶硅的核心設備，其運行好壞直接影響多晶硅質量及生產成本。多晶硅生產對還原爐的沉積環境的潔凈度要求特別關鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物質余留在爐內，都會對產品質量造成影響。北京德高潔清潔設備有限公司經過研發設計并制造出了多晶硅自動化還原爐鐘罩清洗系統，可以完全將多晶硅還原爐鐘罩清洗干凈，滿足生產需求。

德高潔電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗系統包括低壓熱水清洗動力裝置、三維洗罐器、旋轉和升降執行機構、清洗工作臺、萬級凈化干燥系統、循環過濾系統、控制裝置、微負壓系統、清洗工作臺、電氣控制系統等，系統實現了鐘罩的全自動清洗和烘干操作。
 
電子級多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統特點：以水力自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表面的水力掃射。配以旋轉和升降的清洗吹干執行機構，準確定位。操作簡單方便，系統控制，清洗、吹干自行調整。不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿足了底部法蘭的清洗。

在整個還原爐的清洗過程中，清洗、干燥中筒內形成微負壓狀態，防止清洗外溢，同時將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃，通過排污管排出，從而保證了整個過程不會對潔凈區造成污染。

生產多晶硅的工藝復雜，設備清洗是可以降低能耗保證多晶硅產品質量的。多晶硅生產企業對設備須從選型、選材、清洗等方面進行合理、科學的管理，應用現代技術，進行全程清洗，以充分發揮設備功效，為安全、高效生產創造條件。